詳細(xì)摘要： 1.主要應(yīng)用具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司
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詳細(xì)摘要： 1.簡介我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化
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